レーザーテック（6920）の企業分析｜EUVマスク検査装置で世界シェア100%、営業利益率49%の独占企業

会社概要 — EUV半導体の「門番」

レーザーテックは1960年設立の検査・計測装置メーカーです。半導体向けマスク検査装置を中心に、FPD（フラットパネルディスプレイ）検査装置やレーザー顕微鏡も手がけていますが、売上の90%以上を半導体関連事業が占めています。

レーザーテックは会計上は単一セグメント報告ですが、製品カテゴリとしては半導体関連（EUVマスクブランクス検査装置「ABICS」シリーズ、アクティニックEUVパターンマスク検査装置「ACTIS」シリーズ、DUVマスク検査装置等）、FPD関連（フォトマスク検査装置）、レーザー顕微鏡で構成されます。売上・利益のほぼ全てを半導体関連が占めています。

EUVマスク検査装置の仕組みと独占的地位

レーザーテックの中核製品はEUVマスクブランクス検査装置「ABICS」シリーズとEUVパターンマスク検査装置「ACTIS」シリーズです。なぜこれらの装置が「世界で唯一」なのか、半導体製造の仕組みから解説します。

フォトマスクとマスクブランクス

半導体製造では、回路パターンが刻まれた「フォトマスク」に光を当て、ウェハ上にパターンを転写します。フォトマスクの元となる基板が「マスクブランクス」です。EUVリソグラフィでは13.5nmという極めて短い波長の光を使うため、マスクブランクスの表面にナノメートル単位の微小な欠陥があるだけでパターン不良の原因になります。

EUVマスク検査装置 — 世界シェア100%

EUVマスクブランクスの欠陥検査を担うのは「ABICS」シリーズ（E120／E320）です。パターン形成後のEUVマスク検査にはアクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置「ACTIS」シリーズが使われ、両者は検査対象が異なります。いずれもEUVマスクの欠陥を量産レベルで検出できる世界で唯一の装置です。装置1台あたりの価格は数十億円規模とみられ、TSMC・サムスン電子・インテルなどEUVリソグラフィを使用する世界中のファブに納入されています。

High-NA EUV — 次世代の成長機会

ASMLが開発した次世代EUV露光装置「High-NA EUV」は、開口数（NA）を0.33から0.55に引き上げ、2nm以下のさらなる微細化を可能にします。High-NA世代ではマスクの許容欠陥がさらに厳しくなるため、レーザーテックの検査装置の必要性がさらに高まり、新型装置の需要が発生します。インテルは2024年に業界初の商用High-NA EUV露光装置を米オレゴン州の開発拠点に導入し、2026年7月にはIntel 18Aプロセスの一部レイヤーでHigh-NA EUVを用いた量産出荷を開始しました（出典：ASML プレスリリース（2026年7月15日））。

受注サイクルの特殊性

EUVマスク検査装置は1台数十億円の高額装置であり、顧客の新ファブ建設や技術世代の切り替えタイミングに集中して受注が発生します。そのため受注高は年度によって大きく変動します。受注高は2025年6月期の1,052億円を底に、2026年6月期は2,375億円へ回復しました（半導体関連装置は1,722億円、+208.5%）。受注残高も3,013億円まで積み上がり、会社は2027年6月期に売上高2,900億円（+25.8%）・営業利益1,250億円（+18.8%）の増収増益を計画しています。

業績推移と財務分析

レーザーテックは2015年6月期から2025年6月期まで11期連続で最高益を更新する驚異的な成長を遂げてきました。2026年6月期は受注サイクルの谷間で減収減益となり、この連続最高益が途切れましたが、基本的な事業構造は変わっていません。

2026年6月期の売上高は2,305億円（前期比-8.3%）、営業利益は1,053億円（同-14.3%）と減収減益となりました。ただし、営業利益率は45.7%と依然として高水準を維持しており、収益基盤の底堅さが確認できます。減収の主因は受注高の急減であり、コスト構造が悪化したわけではありません。

EPS・配当金の推移

配当方針は配当性向35%を基準としています。2026年6月期はEPSが863円に減少したにもかかわらず、配当は前期と同額の329円を維持（配当性向38.1%）しており、減配を回避する姿勢が見られます。2027年6月期は年間351円（+22円）への増配を計画しており、配当性向35.0%の基準に復帰する見込みです。

バランスシートの健全性

2026年6月期の自己資本比率は73.3%、ROE（自己資本当期純利益率）は33.9%と高水準です。従業員数は1,163名（グループ全体、2025年6月期）で、この少数精鋭で2,305億円の売上を生み出しており、一人あたり売上高は約2.0億円と極めて高い生産性を誇ります。実質無借金経営であり、財務体質は盤石です（出典：レーザーテック 2026年6月期決算短信、レーザーテック ESGデータ（人的資本））。

投資家が注目すべきポイント

強み① EUVマスク検査の絶対的独占

EUVマスクブランクス検査装置で世界シェア100%は、半導体装置業界でも他に類を見ない独占的地位です。EUVリソグラフィはTSMC・サムスン・インテルの最先端プロセス（3nm以下）に不可欠であり、EUV半導体が製造される限り、レーザーテックの装置は代替不可能です。検査感度、スループット、信頼性のすべてで競合（KLA）に対する優位性を維持しています。

強み② 半導体装置業界トップクラスの利益率

2025年6月期の営業利益率48.9%は半導体装置業界でトップクラスです。独占的なポジションが価格交渉力を支え、高い付加価値を維持しています。減益の2026年6月期でも45.7%を維持しており、構造的な高収益体質が確認できます。ROE33.9%（2026年6月期）も日本の装置メーカーの中では突出した水準です。

強み③ High-NA EUVが中長期の成長を支える

ASMLのHigh-NA EUV露光装置の導入が始まっており、マスクの欠陥管理がさらに厳しくなることでレーザーテックの新型検査装置への需要が発生します。High-NA世代では露光回数の増加やマスク面積の変更が見込まれ、マスク検査装置の市場自体が拡大する可能性があります。

リスク① 受注サイクルの大きな変動

2025年6月期の受注高は前期比61.4%減の1,052億円に急減し、その影響で2026年6月期は減収減益となりました。受注高は2026年6月期に2,375億円へ回復しましたが、EUVマスク検査装置は1台数十億円の高額装置であり、顧客の設備投資タイミングに業績が大きく左右されます。今回の回復が一過性にとどまれば、2028年6月期以降に業績が再び落ち込むリスクがあります。

リスク② KLAの競合参入リスク

米KLA Corporationは半導体のプロセス制御（検査・計測）装置の大手サプライヤーです。EUVマスク検査分野では現時点でレーザーテックの独占が続いていますが、KLAがe-beam方式やアクティニック検査方式で量産対応レベルの装置を開発した場合、シェア100%の独占が崩れるリスクがあります。

リスク③ PER38倍の高バリュエーション

2026年9月1日時点の株価はPER38.3倍・PBR12.68倍と、成長期待が大きく織り込まれた水準です。減益局面でのPER38倍は、今後の受注回復と利益成長を前提とした評価であり、回復が遅れた場合の株価調整リスクは大きいと言えます。

まとめ

レーザーテックは、EUVマスクブランクス検査装置で世界シェア100%を握る「世界で唯一の企業」です。EUVリソグラフィを使う最先端半導体の製造に不可欠な存在であり、その独占的地位は当面揺るがないと見られます。

2026年6月期は受注サイクルの谷間で11期連続最高益が途切れましたが、営業利益率45.7%、ROE33.9%という収益力は健在です。中長期的にはHigh-NA EUVの本格導入が新たな成長ドライバーとなる可能性があります。

投資判断のポイントは、①受注回復の持続性、②KLAの競合参入リスク、③PER38倍の高バリュエーションの妥当性の3点です。受注サイクルはすでに底を打っており、2027年6月期に計画する増収増益（売上高2,900億円）を達成できるか、そしてHigh-NA EUV向けの大型受注につながるかが、投資検討の判断材料となるでしょう。